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真空蒸镀的概念及其原理

上传时间:2016/9/1    作者:羽田电子    阅读量:11924

真空蒸镀概念:

在真空环境中,将材料加热并镀到基片上称为真空蒸镀,或叫真空镀膜(vacuum evaporating; vacuum evaporation)。

真空蒸镀是将待成膜的物质置于真空中进行蒸发或升华,使之在工件或基片表面析出的过程。

真空蒸镀中的金属镀层通常为铝膜,但其它金属也可通过蒸发沉积。

 

真空蒸镀原理:

金属加热至蒸发温度。然后蒸汽从真空室转移,在低温零件上凝结。该工艺在真空中进行,金属蒸汽到达表面不会氧化。

在对树脂实施蒸镀时,为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形,有必须对蒸镀时间进行调整。此外,熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。